纳米粒径与Zeta电位分析仪

介绍：

专为复杂体系提供高精度粒度解析方案

NICOMP呈现的不仅仅是传统的高斯正态分布，还有更多。。。。。。

NICOMP 380 Z3000纳米粒径与电位分析仪

NICOMP 380 Z3000纳米粒径与电位分析仪采用先进的设计理念优化结构设计，充分有效地融合了动态光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)和电泳光散射(ELS)技术，即可以多角度（步长0.9°）检测分析液态纳米颗粒系的粒度及粒度分布，又可以小角度测量Zeta电位。粒度测试范围：0.3 nm – 10 μm。

NICOMP 380 Z3000纳米粒径与电位分析仪通过检测分析胶体颗粒的电泳迁移率测量Zeta电位。Zeta电位是对颗粒之间相互排斥或吸引力的强度的度量，是表征胶体分散系稳定性的重要指标，Zeta电位（正或负）越高，体系越稳定。Zeta电位表征的是粒子之间的排斥力。由于大部分的水相胶体体系是通过粒子之间的静电排斥力来保持稳定的，粒子之间的排斥力越大，粒子越不容易发生聚集，胶体也会越稳定。NICOMP 380 Z3000结合了动态光散射技术（DLS）和电泳光散射法（ELS），实现了同机测试纳米粒子分布和Zeta电势电位。

自动滴定仪

NICOMP 380 Z3000纳米粒径与电位分析仪在增加自动滴定模块后，可以一次性使用同一样品在不同PH值或不同离子浓度的条件下进行一系列测试，实现了在等电点测试的技术难题。

相位分析光散射法PALS（Phase Analyze Light Scattering）技术

PSS 于 2004 年推出领先的 PALS 技术，用相位（Phase）变化的分析取代原 先频谱的漂移，不仅使 Zeta 电位分析的精度及稳定性有了显著的提高，而且突破了水相体系的限制，对油、有机物体系同样能提供 Zeta 电位的分析。

NICOMP 380 Z3000 纳米粒径与电位分析仪特点

同机测试悬浮液体的粒径分布以及ZETA电势电位

Zeta电位运用了多普勒电泳迁移原理以及最新的相位分析散射法可以测试水相和有机相的样品

检测范围宽广，亚微米颗粒均可以被检测

样品测试量小

高辨析率

结果重现性好，误差小于1%

100 % 样品可回收利用

可搭载自动滴定仪, 自动稀释器和自动进样器

无须校准

一次性进样，避免交叉污染样品

可选配大功率激光发生器以及军品级APD雪崩二极管检测器来检测粒径小于1nm的颗粒

工作原理：

电泳光散射法（ELS）与粒子的动电（Zeta）电位：

ELS 是将电泳和光散射结合起来的一种新型光散射。它的光散射理论基础是 准弹性碰撞理论，只是在实验时在式样槽中多加一个外电场，带电粒子即以固定 速度向与带电粒子电性相反的电极方向移动，与之相应的动力光散射光谱产生多普勒漂移，这一漂移正比于带电粒子的移动速度，因此实验测得谱线的漂移，就 可以求得带电粒子的电泳速度，从而求得ζ-电位。

相位分析光散射法PALS（Phase Analyze Light Scattering）技术

PSS 于 2004 年推出领先的 PALS 技术，用相位（Phase）变化的分析取代原 先频谱的漂移，不仅使 Zeta 电位分析的精度及稳定性有了显著的提高，而且突破了水相体系的限制，对油、有机物体系同样能提供 Zeta 电位的分析。

动态光散射原理

Nicomp 380纳米粒径分析仪采用动态光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）原理来获得范围在0.3 nm到10 μm的胶体体系的粒度分布。DLS是通过一定波长的聚焦激光束照射在悬浮于样品溶液的粒子上面，从而产生很多的散射光波。这些光波会互相干涉从而影响散射强度，散射强度随时间不断波动，二者之间形成一定的函数关系。粒子的扩散现象（或布朗运动）导致光强不断波动。光强的变化可以通过探测器检测得到。使用自相关器分析随时间而变的光强波动就可以得到粒度分布系数（Particle size distribution, PSD）。单一粒径分布的自相关函数是一个指数衰减函数，由此可以很容易通过衰减时间计算得到粒子扩散率。最终，粒子的半径可以很容易地通过斯托克斯（Stokes-Einstein）方程式计算得到。

如下是Nicomp 380纳米粒径分析仪的检测原理简图：

大部分样品一般都不均匀，往往会呈现多分散体系状态，即测出来的粒径正态分布范围会比较大，直观的呈现是粒径分布峰比较宽。自相关函数是由多组指数衰减函数综合组成，每一个指数衰减函数都会因指数衰减时间不同而存在差异，此时计算自相关函数就变得不再简单。

Nicomp 380纳米粒径分析仪巧妙运用了去卷积算法来转化原始数据，从而得出最接近真实值的粒度分布。Nicomp 尤其适合测试粒度分布复杂的样品体系，利用一组独特的去卷积算法将简单的高斯正态分布模拟成高分辨率的多峰分布模式，这种去卷积分析方法，即得到PSS粒度仪公司独有的粒径分布表达方法—Nicomp分布（Nicomp Distribution）。

有些仪器的高斯分析模式可以使用基线调整参数的功能，以此来补偿测试环境太脏而超出仪器灵敏度的问题。高斯分析模式也可以允许使用者指定“固体重量模式”或者“囊泡重量模式”来分析带有小囊泡的胶体体系，比如脂质体。

Nicomp分析方法是一种专利的高分辨率的去卷积算法，它首次在1990年提出并应用于分析和统计粒径分布。在历史上已经证明Nicomp分析方法能够精确分析非常复杂的双峰样品分散体系（比如 2：1比例），甚至是三峰样品分散体系。在科学研究中，找到粒子聚集分布的杂峰是非常有用的。