纳米激光粒度仪380

产品介绍：

专为复杂体系提供高精度粒度解析方案

NICOMP呈现的不仅仅是传统的高斯正态分布，还有更多。。。。。。

NICOMP 380N3000纳米粒径分析仪

Nicomp 380 N3000 纳米粒径分析仪采用动态光散射原理检测分析颗粒的粒度分布，主要用于检测纳米级别的胶体体系，其粒径检测范围 0.3 nm- 10μm。Nicomp 380系列仪器复合采用了 Gaussian 单峰算法和专利的 Nicomp 多峰算法，对于多组分、粒径分布不均匀液态分散体系的分析以及胶体体系的稳定性分析具有独特优势，其优异的解析度及重现性是其他同类产品无可比拟的。

基线调整自动补偿功能和高分辨率多峰算法是Nicomp 380系列仪器所独有的两个主要特点，通过多年在不同领域的实践证明，Nicomp380系列仪器可以有效区分开相邻峰，也可以识别并剔除少数较大粒子造成的杂峰。如下图所示：

Nicomp 380纳米粒径分析仪可以有效区分开相邻峰

	动态光散射&模块化设计 标准配置的Nicomp 380 纳米粒径分析仪装载了 15 mW的半导体激光光源，PMT探测器，以及固定90度检测角。进样方式为嵌入式样品池。 Nicomp 380纳米粒径分析仪是全球唯一在应用动态光散射技术上的基础上加入多模块方法的先进粒度仪。随着模块的升级和增加，Nicomp 380的功能体系越来越强大，可以用于各种复杂体系的检测分析。
	自动稀释模块 带有专利的自动稀释模块消除了人工稀释高浓度样品带来的误差，且不需要人工不断试错来获得合适的测试浓度，这大大缩短了测试者宝贵时间，且无需培训，测试结果重现性好，误差率＜1%。
	380/HPLD大功率激光器 美国PSS粒度仪公司在开发仪器的过程中，考虑到在各种极端实验测试条件中不同的需求，对不用使用条件和环境配置了不同功率的激光发生器。大功率的激光器可以对极小的粒子也能搜集到足够的散射信号，使得仪器能够得到极小粒子的粒径分布。同样，大功率激光器在测试大粒子的时候同样也很有帮助，比如在检测右旋糖酐大分子时，折射率的特性会引起光散射强度不足。 因为大功率激光器的特性，会弥补散射光强的不足和衰减，测试极其微小的微乳、表面活性剂胶束、蛋白质以及其他大分子不再是一个苛刻的难题。即使没有色谱分离，Nicomp 380纳米粒径分析仪甚至也可以轻易估算出生物高分子的聚集程度。
	雪崩二极管 (APD) 探测器 Nicomp 380纳米粒径分析仪可以装配各种大功率的激光发生器和军品级别的雪崩二极管检测器（相比较传统的光电倍增管有7倍放大增益效果）。 APD通常被用于散射发生不明显的体系里来增加信噪比和敏感度，如蛋白质、不溶性胶束、浓度极低的体系以及大分子基团，他们的颗粒的一般浓度为1mg/mL甚至更低，这些颗粒是由对光的散射不敏感的原子组成。APD外置了一个大功率激光发生器模块，在非常短的时间内就能检测分析纳米级颗粒的分布情况。
	380/MA多角度检测器 粒径大于100 nm的颗粒在激光的照射下不会朝着各个方向散射。多角度检测角器通过调节检测角度来增加粒子对光的敏感性来测试某些特殊级别粒子。Nicomp 380可以配备范围在10°-175°，步长0.9°的多角度测角器，从而使得单一90°检测角测试不了的样品，通过调节角度进行检测，改善对大粒子多分散系粒径分析的精确度。
	NICOMP 380 N3000 纳米粒径分析仪产品优势 检测范围 0.3 nm -10 μm 绝对测量 无需校准 应用领域广 检测速度快 灵敏度高 对团聚粒子灵敏度高（D6） 功能全面 使用简捷 复合型算法 高斯（Gaussion）单峰算法与专利的Nicomp多峰算法结合 模块化设计 可同机搭载ZETA电位检测模块，还可增加自动稀释和自动滴定等辅助测试模块

工作原理：

动态光散射原理

Nicomp 380纳米粒径分析仪采用动态光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）原理来获得范围在0.3 nm到10 μm的胶体体系的粒度分布。DLS是通过一定波长的聚焦激光束照射在悬浮于样品溶液的粒子上面，从而产生很多的散射光波。这些光波会互相干涉从而影响散射强度，散射强度随时间不断波动，二者之间形成一定的函数关系。粒子的扩散现象（或布朗运动）导致光强不断波动。光强的变化可以通过探测器检测得到。使用自相关器分析随时间而变的光强波动就可以得到粒度分布系数（Particle size distribution, PSD）。单一粒径分布的自相关函数是一个指数衰减函数，由此可以很容易通过衰减时间计算得到粒子扩散率。最终，粒子的半径可以很容易地通过斯托克斯（Stokes-Einstein）方程式计算得到。

如下是Nicomp 380纳米粒径分析仪的检测原理简图：

大部分样品一般都不均匀，往往会呈现多分散体系状态，即测出来的粒径正态分布范围会比较大，直观的呈现是粒径分布峰比较宽。自相关函数是由多组指数衰减函数综合组成，每一个指数衰减函数都会因指数衰减时间不同而存在差异，此时计算自相关函数就变得不再简单。

Nicomp 380纳米粒径分析仪巧妙运用了去卷积算法来转化原始数据，从而得出最接近真实值的粒度分布。Nicomp 尤其适合测试粒度分布复杂的样品体系，利用一组独特的去卷积算法将简单的高斯正态分布模拟成高分辨率的多峰分布模式，这种去卷积分析方法，即得到PSS粒度仪公司独有的粒径分布表达方法—Nicomp分布（Nicomp Distribution）。

有些仪器的高斯分析模式可以使用基线调整参数的功能，以此来补偿测试环境太脏而超出仪器灵敏度的问题。高斯分析模式也可以允许使用者指定“固体重量模式”或者“囊泡重量模式”来分析带有小囊泡的胶体体系，比如脂质体。

Nicomp分析方法是一种专利的高分辨率的去卷积算法，它首次在1990年提出并应用于分析和统计粒径分布。在历史上已经证明Nicomp分析方法能够精确分析非常复杂的双峰样品分散体系（比如 2：1比例），甚至是三峰样品分散体系。在科学研究中，找到粒子聚集分布的杂峰是非常有用的。

应用领域：

NICOMP 380N3000纳米粒径分析仪广泛适用于检测悬浮在水相和有机相的颗粒物。

1）磨料

磨料既有天然的也有合成的，用于研磨、切削、钻孔、成形以及抛光。磨料是在力的作用下实现对硬度较低材料的磨削。磨料的质量取决于磨料的粗糙度和颗粒的均匀性。

2）化学机械抛光液(CMP SLURRY)

化学机械抛光是半导体制造加工过程中的重要步骤。化学机械抛光液是由腐蚀性的化学组分和磨料(通常是氧化铝、二氧化硅或氧化铈)两部分组成。抛光过程很大程度上取决于晶片表面构型。晶片的加工误差通常以埃计，对晶片质量至关重要。抛光液粒度越均匀、不聚集成胶则越有利于化学机械抛光加工过程的顺利进行。

3）陶瓷

陶瓷在工业中的应用非常广泛，从砖瓦到生物医用材料及半导体领域。在生产加工过程中监测陶瓷颗粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制最终产品的性能和质量。

4）粘土

粘土是一种含水细小颗粒矿物质天然材料。粉砂与粘土类似，但粉沙的颗粒比粘土大。粘土中易于混杂粉砂从而降低粘土的等级和使用性能。ISO14688定义粘土的颗粒小于63μm。

5）涂料

涂料种类繁多，用途广泛。涂料的颗粒大小及粒度分布直接影响涂料的质量和性能。

6）污染监测

粒度检测分析在产品的污染监测方面起着重要作用，产品的污染对产品的质量影响巨大。绝大多数行业都有相应的标准、规程或规范，必须严格遵守和执行，以保证产品满足质量要求。

7）化妆品

无论是普通化妆品还是保湿剂、止汗剂，它们的性能都直接与粒度的大小和分布有关。化妆品的颗粒大小会影响其在皮肤表面的涂抹性能、分布均匀性能以及反光性能。保湿乳液(一种乳剂)的粒度小于200纳米时才能被皮肤良好吸收，而止汗剂的粒度只有足够大时才能阻塞毛孔起到止汗的作用。

8）乳剂

乳剂是两种互不相溶的液体经乳化制成的非均匀分散体系，通常是水和油的混合物。乳剂有两种类型，一种是水分散在油中，另一种是油分散在水中。常见的乳剂制品有牛奶（水包油型）和黄油（油包水型），加工过程中它们均需均质化处理到所需的粒径大小以期延长保质期。

9）食品

食品的原料（粉末及液体）通常来源于不同的加工厂，不同来源的原料必须满足某些特定的标准以使最终制品的质量均一稳定。原料性质的任何波动都会对食品的口味和口感产生影响。用原料的粒度分布作为食品质量保证和质量控制（QA/QC）的一个指标可确保生产出质量均以稳定的食品制品。

10）液体工作介质/油

液体工作介质（如：油）越来越昂贵，延长液体介质的寿命是目前普遍关心的问题。机械设备运转过程中会产生金属屑或颗粒落入工作介质中（如：油浴润滑介质或液力传递介质），因此需要一种方法来确定介质（油）的更换周期。通过监测工作介质（油）中颗粒的分布和变化可以确定更换工作介质的周期以及延长其使用寿命。

11）墨水

随着打印机技术的不断发展，打印机用的墨水变得越来越重要。喷墨打印机墨水的粒度应当控制在一定的尺度以下，且分布均匀，大的颗粒易于堵塞打印头并影响打印质量。墨水是通过研磨方法制得的，可用粒度检测分析仪器设备监测其研磨加工过程，以保证墨水的颗粒粒度分布均匀，避免产生聚集的大颗粒。

12） 胶束

胶束是表面活性剂在溶液中的浓度超过某一临界值后，其分子或离子自动缔合而成的胶体尺度大小的聚集体质点微粒，这种胶体质点与离子之间处于平衡状态。

乳液、色漆、制药粉体、颜料、聚合物、蛋白质大分、二氧化硅以及自组装TiO_2纳米管(TNAs)等